液晶基多模控光成像探测

作者简介

张新宇（博士/教授/博导），1986年毕业于“长春光学精密机械学院”红外技术专业（工学学士）。同年分配至“中 国兵器工业第203研究所”从事制导技术研究。1992年考入“华中理工大学”凝聚态物理专业攻读硕士学位，1995年毕业 （理学硕士）。同年9月考入“华中理工大学”物理电子学与光电子学专业攻读博士学位，1999年毕业（工学博士）。 2000-2002年在“华中科技大学”外存储系统国家专业实验室作第一站博后，2002-2003年在荷兰“Delft University of Technology”作第二站博后。2004年进入“华中科技大学”工作，已指导毕业博硕士研究生近四十人。目前正负责多项预研课题研究，在研科研经费数百万元。

内容简介

本书总结了作者及其研究团队过去10余年，针对可见光和红外谱域的微纳控光成像探测，开展新的成像方法、微纳结构设计、液晶微光学光电结构工艺制作等方面的部分研究工作。针对提高复杂背景环境与目标的成像探测、识别和可视化能力，通过将电控液晶微纳光学结构与光敏阵列耦合，构造芯片级控光的智能化焦平面光电成像器件和小型化多模控光成像探测架构，主要涉及液晶基多模控光焦平面光电成像方法和关键技术方面的内容。通过与光敏阵列耦合的液晶微纳控光结构，测调成像压缩光场参量，包括：波前、波矢、偏振和能流，实现快速控光干预成像光场能流压缩形态构建与阵列化光电转换的成像探测效能增强与扩展。在解决关键问题诸如：光波参量和模态测调与成像探测效能间的递推性制约属性，液晶基多模控光参数体系构建，图案化电极激励、调变阵列化微纳空间电场的光波参量和模态协同，构建小型化液晶焦平面光电成像探测架构等基础上，达到下述目标：（一）获得液晶基多模控光焦平面光电成像方法和关键技术；（二）建立基于光波参量芯片级测调的焦平面光电成像器件与微纳控光结构的设计、工艺和参数体系；（三）为多模控光先进成像探测技术应用提供方法和技术支撑。