半导体先进光刻理论与技术

作者简介

作者简介：安德里亚斯?爱德曼 国际光学工程学会(SPIE)会士，德国弗劳恩霍夫协会（Fraunhofer）系统集成与元件研究所计算光刻和光学组学术带头人，德国埃尔朗根大学客座教授。拥有25年以上光学光刻与极紫外光刻研发经验。多次担任国际光学工程学会光学光刻与光学设计国际会议主席，是Fraunhofer国际光刻仿真技术研讨会组织者。为Dr.LiTHO等多款先进光刻仿真软件的研发与发展做出了重要贡献。 译者简介：李思坤 中国科学院上海光学精密机械研究所研究员，博士生导师。长期从事半导体光学光刻与极紫外光刻技术研究，主持多项国家科技重大专项、张江实验室、国家自然科学基金、上海市自然科学基金项目/课题，发表SCI/EI检索学术论文110余篇，获授权发明专利40余项，多项专利已转移至国内集成电路制造装备与软件生产企业，合著出版学术专著2部，参与编著我国首部全工具链《EDA技术白皮书》，多次受邀作国内外邀请/特邀学术报告。

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