图解入门——功率半导体基础与工艺精讲（原书第2版）

作者简介

佐藤淳一 京都大学工学研究生院硕士。1978年，加入东京电气化学工业股份有限公司（现TDK）；1982年，加入索尼股份有限公司。一直从事半导体和薄膜设备，以及工艺技术的研发工作。期间，在半导体尖端技术（Selete）创立之时被借调，担任长崎大学工学部兼职讲师、半导体行业委员会委员。 著有书籍 《CVD手册》 《图解入门——半导体制造设备基础与构造精讲（原书第3版）》 《图解入门——功率半导体基础与机制精讲（原书第2版）》 《图解入门——半导体制造工艺基础精讲（原书第4版）》

内容简介

186个知识点，176张工艺与构造图表， 日本著名半导体专家佐藤淳一从业30多年积淀 复旦大学微电子学院教授蒋玉龙推荐 南京大学微制造与集成工艺中心原副主任、北京智慧能源研究院半导体资深技术专家李哲洋博士推荐 华为公司高级顾问、信息通信行业专家李翔宇推荐 双极晶体管、MOSFET、IGBT、MOS LSI、晶圆减薄工艺、硅晶圆、SiC和GaN、芯片黏接